在现代高速光模块制造中，跨阻放大器表面的洁净度直接影响着信号处理的精确度与系统稳定性。针对400G LR4 ROSA产品对TIA面的高规格清洁需求，DSJet雪花清洗技术提供了专业完善的解决方案。

该技术采用特制的雪花介质，通过非接触式的物理作用原理，能够温和而彻底地清除TIA表面在生产与封装过程中可能附着的细微污染物。在400G LR4 ROSA这类高性能产品中，此项技术展现出了良好的适用性，既能有效清洁关键电学界面，又不会对精密结构产生负面影响。

相比传统清洁工艺，该技术具备显著优势：一方面实现了无损伤清洁，避免了对敏感元器件的影响；另一方面保障了清洁过程的无残留特性，确保了器件长期工作的可靠性。通过维持TIA面的理想洁净状态，有助于提升信号转换的准确性，为高速光通信系统的稳定运行提供重要支持。

目前，该清洁技术已成为高性能光模块制造流程中的重要环节，在400G及以上速率产品的质量控制中发挥着积极作用，为光通信技术的持续发展提供了可靠的工艺保障。